石墨烯薄膜
發(fā)布日期：2025-04-19 來源： 瀏覽次數(shù)：32
微晶科技作為國內(nèi)領(lǐng)先的石墨烯材料研發(fā)與生產(chǎn)企業(yè)，采用化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)制備石墨烯薄膜。通過精確控制反應(yīng)條件，如溫度、壓力、氣體流量等，實(shí)現(xiàn)石墨烯的可控制備，并優(yōu)化生長參數(shù)和后處理方法，從而獲得大面積、均勻且具有優(yōu)異性能的石墨烯薄膜。
公司可提供產(chǎn)品有：
晶圓級(jí)石墨烯：氧化硅片基底石墨烯晶圓、硅基底石墨烯晶圓、石英基底石墨烯晶圓；
各類基底石墨烯：銅基底石墨烯、單面生長銅基底石墨烯、泡取式石墨烯、氧化硅片基底石墨烯、硅片基底石墨烯、懸空自助轉(zhuǎn)移石墨烯、PET基底石墨烯、藍(lán)寶石基底石墨烯、石英基底石墨烯、鎳泡沫石墨烯（3D石墨烯）、自助轉(zhuǎn)移鎳泡沫石墨烯；
石墨烯薄膜單層厚度約為 0.3-0.6nm，透過率大于 97%，A 級(jí)單層覆蓋率大于 97%，B 級(jí)單層覆蓋率大于 85%
微晶科技為客戶提供定制化服務(wù)，可根據(jù)客戶的需求定制石墨烯薄膜基底、層數(shù)、尺寸等參數(shù)，滿足不同客戶的個(gè)性化需求。
微晶科技作為國內(nèi)領(lǐng)先的石墨烯材料研發(fā)與生產(chǎn)企業(yè)，采用化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)制備石墨烯薄膜。通過精確控制反應(yīng)條件，如溫度、壓力、氣體流量等，實(shí)現(xiàn)石墨烯的可控制備，并優(yōu)化生長參數(shù)和后處理方法，從而獲得大面積、均勻且具有優(yōu)異性能的石墨烯薄膜。
公司可提供產(chǎn)品有：
晶圓級(jí)石墨烯：氧化硅片基底石墨烯晶圓、硅基底石墨烯晶圓、石英基底石墨烯晶圓；
各類基底石墨烯：銅基底石墨烯、單面生長銅基底石墨烯、泡取式石墨烯、氧化硅片基底石墨烯、硅片基底石墨烯、懸空自助轉(zhuǎn)移石墨烯、PET基底石墨烯、藍(lán)寶石基底石墨烯、石英基底石墨烯、鎳泡沫石墨烯（3D石墨烯）、自助轉(zhuǎn)移鎳泡沫石墨烯；
石墨烯薄膜單層厚度約為 0.3-0.6nm，透過率大于 97%，A 級(jí)單層覆蓋率大于 97%，B 級(jí)單層覆蓋率大于 85%
微晶科技為客戶提供定制化服務(wù)，可根據(jù)客戶的需求定制石墨烯薄膜基底、層數(shù)、尺寸等參數(shù)，滿足不同客戶的個(gè)性化需求。
