銅基底石墨烯轉(zhuǎn)移到氧化硅片上
發(fā)布日期：2022-09-27 來源： 瀏覽次數(shù)：17
銅基底石墨烯 (WJCS/F)是一款以優(yōu)質(zhì)銅箔為基底，通過化學(xué)氣相沉積工藝，令石墨烯在銅箔表面生長，制備出的單層、雙層和少層（少于10層）石墨烯薄膜。而在實(shí)驗(yàn)中有時(shí)可能需要用到石墨烯在氧化硅片上的實(shí)驗(yàn)測(cè)試，因此，就需要把銅基底石墨烯轉(zhuǎn)移到氧化硅片上去。那么，銅基底石墨烯是如何轉(zhuǎn)移到氧化硅片上去的呢！下面我們就來一起了解一下。
銅基底石墨烯轉(zhuǎn)移到氧化硅片上的過程：
1、取出銅箔，裁切，取樣；
2、在樣品的表面旋涂上一層PMMA后，室溫條件下充分干燥；
3、裁剪已旋涂上PMMA的銅箔，取中間部分，置于刻蝕液中進(jìn)行刻蝕；
4、刻蝕過程中，要多次用去離子水對(duì)銅箔的背面進(jìn)行沖洗；
5、待銅箔被完全刻蝕后，用玻璃片將石墨烯薄膜轉(zhuǎn)移到水中，并對(duì)其進(jìn)行清洗；
6、清洗完以后，將石墨烯薄膜轉(zhuǎn)移到氧化硅片上，干燥；
7、待試樣冷卻到室溫下后，將其置于丙酮溶液中以去除PMMA；
8、取出試樣用乙醇及去離子水對(duì)薄膜表面進(jìn)行沖洗，晾干。
溫馨提示：石墨烯轉(zhuǎn)移到任何基底（不包括懸空自助轉(zhuǎn)移的基底）上后，干燥之前都是可以再釋放下來的，但充分干燥以后，石墨烯與基底之間充分粘合，就不能再釋放下來。
銅基底石墨烯 (WJCS/F)是一款以優(yōu)質(zhì)銅箔為基底，通過化學(xué)氣相沉積工藝，令石墨烯在銅箔表面生長，制備出的單層、雙層和少層（少于10層）石墨烯薄膜。而在實(shí)驗(yàn)中有時(shí)可能需要用到石墨烯在氧化硅片上的實(shí)驗(yàn)測(cè)試，因此，就需要把銅基底石墨烯轉(zhuǎn)移到氧化硅片上去。那么，銅基底石墨烯是如何轉(zhuǎn)移到氧化硅片上去的呢！下面我們就來一起了解一下。
銅基底石墨烯轉(zhuǎn)移到氧化硅片上的過程：
1、取出銅箔，裁切，取樣；
2、在樣品的表面旋涂上一層PMMA后，室溫條件下充分干燥；
3、裁剪已旋涂上PMMA的銅箔，取中間部分，置于刻蝕液中進(jìn)行刻蝕；
4、刻蝕過程中，要多次用去離子水對(duì)銅箔的背面進(jìn)行沖洗；
5、待銅箔被完全刻蝕后，用玻璃片將石墨烯薄膜轉(zhuǎn)移到水中，并對(duì)其進(jìn)行清洗；
6、清洗完以后，將石墨烯薄膜轉(zhuǎn)移到氧化硅片上，干燥；
7、待試樣冷卻到室溫下后，將其置于丙酮溶液中以去除PMMA；
8、取出試樣用乙醇及去離子水對(duì)薄膜表面進(jìn)行沖洗，晾干。
溫馨提示：石墨烯轉(zhuǎn)移到任何基底（不包括懸空自助轉(zhuǎn)移的基底）上后，干燥之前都是可以再釋放下來的，但充分干燥以后，石墨烯與基底之間充分粘合，就不能再釋放下來。
