一步轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜
發(fā)布日期：2024-12-04 來(lái)源： 瀏覽次數(shù)：20
石墨烯，作為一種具有戰(zhàn)略意義的新型材料，其在科學(xué)研究、芯片電路電子、新能源、新材料、生物技術(shù)等關(guān)鍵行業(yè)中的應(yīng)用前景廣闊。尤其是對(duì)于科研級(jí)別的石墨烯薄膜，其所需的石墨烯品質(zhì)必須達(dá)到極高的穩(wěn)定性和純度。為了滿足這一要求，我們需從常見(jiàn)的基底石墨烯出發(fā)，通過(guò)刻蝕技術(shù)去除銅基底，從而獲得石墨烯/保護(hù)層薄膜。隨后，將石墨烯及其保護(hù)層轉(zhuǎn)移至“懸空基底”上。用戶在收到產(chǎn)品后，只需簡(jiǎn)單地在去離子水中浸泡，便可輕松釋放出可直接轉(zhuǎn)移到多種基底上的一步法轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜。
本文將詳細(xì)介紹一步法轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜的過(guò)程，以“泡-取”式石墨烯為基石，以微晶科技的濕法轉(zhuǎn)移技術(shù)為例，闡述如何使用離子蝕刻劑（例如過(guò)硫酸銨水溶液）來(lái)溶解石墨烯的生長(zhǎng)基底，進(jìn)而將石墨烯從液體清潔溶劑（通常是去離子水）中轉(zhuǎn)移到目標(biāo)襯底，整個(gè)過(guò)程無(wú)需干燥。多種支撐層、基底層和保護(hù)層的運(yùn)用，確保了石墨烯的清潔和無(wú)殘留轉(zhuǎn)移。
微晶科技的濕法轉(zhuǎn)移技術(shù)，基于“泡-取”式石墨烯，是實(shí)現(xiàn)一步法轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜的成熟工藝。這種方法因其高成功率、穩(wěn)定的品質(zhì)和可靠性，已成為轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜的常見(jiàn)且普及手段。同時(shí)，它也是降低成本、促進(jìn)廣泛應(yīng)用的關(guān)鍵途徑。此外，該技術(shù)還能顯著簡(jiǎn)化操作程序，減少操作步驟，降低殘留物的產(chǎn)生，并最大程度地減少對(duì)轉(zhuǎn)移過(guò)程中石墨烯薄膜的損害。
石墨烯，作為一種具有戰(zhàn)略意義的新型材料，其在科學(xué)研究、芯片電路電子、新能源、新材料、生物技術(shù)等關(guān)鍵行業(yè)中的應(yīng)用前景廣闊。尤其是對(duì)于科研級(jí)別的石墨烯薄膜，其所需的石墨烯品質(zhì)必須達(dá)到極高的穩(wěn)定性和純度。為了滿足這一要求，我們需從常見(jiàn)的基底石墨烯出發(fā)，通過(guò)刻蝕技術(shù)去除銅基底，從而獲得石墨烯/保護(hù)層薄膜。隨后，將石墨烯及其保護(hù)層轉(zhuǎn)移至“懸空基底”上。用戶在收到產(chǎn)品后，只需簡(jiǎn)單地在去離子水中浸泡，便可輕松釋放出可直接轉(zhuǎn)移到多種基底上的一步法轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜。
本文將詳細(xì)介紹一步法轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜的過(guò)程，以“泡-取”式石墨烯為基石，以微晶科技的濕法轉(zhuǎn)移技術(shù)為例，闡述如何使用離子蝕刻劑（例如過(guò)硫酸銨水溶液）來(lái)溶解石墨烯的生長(zhǎng)基底，進(jìn)而將石墨烯從液體清潔溶劑（通常是去離子水）中轉(zhuǎn)移到目標(biāo)襯底，整個(gè)過(guò)程無(wú)需干燥。多種支撐層、基底層和保護(hù)層的運(yùn)用，確保了石墨烯的清潔和無(wú)殘留轉(zhuǎn)移。
微晶科技的濕法轉(zhuǎn)移技術(shù)，基于“泡-取”式石墨烯，是實(shí)現(xiàn)一步法轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜的成熟工藝。這種方法因其高成功率、穩(wěn)定的品質(zhì)和可靠性，已成為轉(zhuǎn)移石墨烯薄膜的常見(jiàn)且普及手段。同時(shí)，它也是降低成本、促進(jìn)廣泛應(yīng)用的關(guān)鍵途徑。此外，該技術(shù)還能顯著簡(jiǎn)化操作程序，減少操作步驟，降低殘留物的產(chǎn)生，并最大程度地減少對(duì)轉(zhuǎn)移過(guò)程中石墨烯薄膜的損害。
